微流量控制是一种精确控制微尺度流体特别是亚微米结构的技术，也称为芯片实验室(Lab-on-a-Chip )或微芯片技术。 将生物、化学、医学分析过程的样品制备、反应、分离、检测等基本操作单元集成在微米尺度的芯片上，自动完成分析的全过程。 由于在生物、化学、医学等领域的巨大潜力，发展成了生物、化学、医学、流体、电子、材料、机械等学科交叉的新的研究领域。 由于微米级的结构，流体在微芯片上显示出不同于宏观尺度的特殊性能，从而发生了独特的分析性能。 同时具有体积轻、使用样品和试剂量少、能耗低、反应速度快、可以进行大量平行处理、可以立即报废等优点。

　　微芯片最初也是由MEMS技术发展而来的，通过微工艺在硅、金属、高分子聚合物、玻璃、石英等材质的基板上形成了从微米到亚微米级的流体通路、反应或检测腔、过滤器或传感器等各种微细结构单元

　　大多数微加工必须首先设计和绘制布局。 微芯片的制作也是一样。 根据目的设计合适的布局。 关于具体的版面设计，在小编昨天的文章中已经提到了，请参照前面的文章。

　　掩模是指用一定的方法以一定的间距和布局在基板上制作上面设计的特定几何图形，制作各种功能图形，并正确定位。 一般使用方法：

　　2、Stepper曝光机的转印图案和版图尺寸的实际比率通常为4:1或5:1，将版图图案缩小4~5倍实现投影到目标片材上。

　　3、电子束直写技术实现表面nm图案的转移，在掩膜板对光刻胶的压力的同时辅助紫外曝光，最终实现纳米级图案的转移。

　　刻板化后，可以进行常规的光刻蚀刻工艺。 这里需要注意的是，一般制造微芯片的客户设计的蚀刻深度很深。 在某些情况下，可能需要制作与蚀刻深度有关的硬掩模(氧化硅、氮化硅、金属铬等)。

　　我们蚀刻时选择等离子蚀刻进行加工，根据不同的材料选择不同的气体源。 等离子体刻蚀是一种以化学反应为主的干法刻蚀技术，刻蚀气体分子在高频电场的作用下产生等离子体。 等离子体中自由基的化学性质非常活跃，目的是利用与被蚀刻材料的化学反应，蚀刻微芯片。 目前，硅材料、玻璃、石英等具有较为完美电竞成熟的技术。 蚀刻石英时，为了得到深的纵横比(CHF3三氟甲烷)，需要特殊的气体源。

　　对于用光刻工艺制作的基板，蚀刻结束后，在基板表面涂布PDMS (数百um )，使其干燥，完全凝固后完成逆型。 (PDMS与固化剂的比率一般为10:1 )

　　如果调整流程，可以得到自己想要的微芯片，但各个过程中存在很多问题。 由于根据个人的需求，版的选择和制作所采用的加工设备的设计方法有很大关系，因此选择不当可能会引起通道粗糙度过大、蚀刻深度不能满足等问题。